◆浮遊金属微粒子連続ﾓﾆﾀﾘﾝｸﾞｼｽﾃﾑ◆

業界初の快挙！　歩留まり向上に努める製造関係者に朗報

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半導体、液晶、HDD製造工場のｸﾘｰﾝﾙｰﾑ内の各生産ﾗｲﾝで発生している浮遊金属微粒子をPPTﾚﾍﾞﾙの超高感度で、 且つ、連続的に測定する金属成分分析法を世界で初めて開発しました。
　ｸﾘｰﾝﾙｰﾑ内で超高精細・超微細なﾌﾟﾛｾｽを扱う製造技術者は、製品の歩留まりを急激に低下させる原因となる浮遊微粒子、 特に、金属微粒子の発生のﾎﾟﾃﾝｼｬﾙに対し、常日頃、細心の注意を払いその防止に努めていると言えます。 従来、クリーンルーム内の浮遊金属微粒子の分析・モニタリングとして、金属他の 浮遊微小粒子のｻｲｽﾞ・分布測定にはパーティクルカウンターが使われ、金属の元素分析に はICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析計）が一般的に使用されています。 然し、浮遊金属微粒子の発生源特定には迅速な元素分析が必要ですが、ｶﾞｽ状の試料採集・前処理や、分析感度、分析時間等の問題で、 必ずしも本質的な問題解決、歩留まり対策に至っていないのが現状です。
　 本装置は、ICP-MSへの気体試料導入前に、アルゴンと略100%置き換え、ICP-MSでの元素分析（定量・定性）を直接、ｵﾝﾗｲﾝ上で連続的に行うことが できる装置です。

【特徴】

• ﾘｱﾙﾀｲﾐﾝｸﾞﾓﾆﾀﾘﾝｸﾞ：刻々と変化する大気環境、浮遊微粒子の動態解明に役立ちます。
• 高感度測定(特に個体濃度の低い試料)：ｸﾘｰﾝﾙｰﾑの一般的環境評価、浮遊微粒子の発生源の特定等に有効です。
• 少ない試料ｶﾞｽ量　　：半導体材料ｶﾞｽ等の品質評価にも有効です。
• ｸﾘｰﾝなｱﾙｺﾞﾝﾌﾟﾗｽﾞﾏ　　：試料ｶﾞｽに起因する干渉がないので、測定を一定条件で行うことができます。
• 浮遊微粒子の直接分析　　：TOF-MSとの組み合わせで組成分析や同位体分析が可能です。

【従来方法との比較】

項目	従来方法	提案方法
測定系	ｲﾝﾋﾟｼﾞｬｰ捕集+ICP-MS	ｶﾞｽｺﾝﾊﾞｰﾀ＋ICP-MS
測定方法	ﾌｨﾙﾀｰ捕集等、試料通過効率が低い	気体試料を連続的に捕集(200mL/分)
測定時間	1〜5日/1ﾃﾞｰﾀ	10ms/1ﾃﾞｰﾀ、連続測定可能
金属ｲｵﾝ干渉	酸化ｱﾙｺﾞﾝと鉄ｲｵﾝ	鉄の測定可能

PEMFC 25cm²製品群

PEMFC 25cm²製品群

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